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      摩方精密3D打印

      產(chǎn)品簡介

      摩方精密3D打印是科研級3D打印系統(tǒng),擁有10μm的超高打印精度和10μm的超低打印層厚,從而實現(xiàn)超高精度的樣件制作,非常適合高校和研究機(jī)構(gòu)用于科學(xué)研究及應(yīng)用創(chuàng)新,為客戶提供好的3D打印服務(wù)體驗。

      產(chǎn)品型號:
      更新時間:2024-09-18
      廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
      訪問量:5225
      詳細(xì)介紹在線留言
      品牌摩方精密應(yīng)用領(lǐng)域醫(yī)療衛(wèi)生,食品/農(nóng)產(chǎn)品,生物產(chǎn)業(yè),電子/電池,制藥/生物制藥
      光學(xué)精度10μm

      一、摩方精密3D打印產(chǎn)品介紹

      nanoArch®是采用PUSL(面投影微立體光刻)技術(shù),用于實現(xiàn)高精度多材料微納尺度3D打印的設(shè)備。通過將紫外光投影到液態(tài)樹脂表面使其固化,逐層累加從而完成產(chǎn)品的制作。通過一次曝光可以完成一層的制作。

      科研級3D打印系統(tǒng),擁有超高打印精度和超低打印層厚,從而實現(xiàn)超高精度的樣件制作,非常適合高校和研究機(jī)構(gòu)用于科學(xué)研究及應(yīng)用創(chuàng)新。


      二、摩方精密3D打印產(chǎn)品特性

      1、可定制高定位精度的光學(xué)系統(tǒng)和運動平臺,兩者最高分辨率皆可達(dá)到20μm。

      2、采用圖像拼接成型方式解決成型精度與大尺寸成型之間的矛盾。

      3、通過工藝技術(shù)控制,實現(xiàn)3D打印成品的表面光滑。

      4、光學(xué)方面:光學(xué)實時監(jiān)控,實現(xiàn)自動對焦及曝光補償。

      5、軟件系統(tǒng):nanoArch圖形界面控制系統(tǒng),參數(shù)端口開放。


      三、使用環(huán)境要求

      1、需避免的場合:

      垃圾、灰塵、油霧多的場所;

      震動以及沖擊多的場所;

      能觸及藥品和易燃易爆物的場所;

      高頻干擾源附近的場所;

      溫度會急劇變化的場所;

      在CO2、NOX、SOX等濃度高的環(huán)境中。

      2、環(huán)境濕度:40%-60%

      3、環(huán)境溫度:25±3℃

      4、電力需求:

      100-240V/單相/50/60Hz/15A;

      供電電網(wǎng)波動:<5%;

      電網(wǎng)地線符合機(jī)房國標(biāo)要求。


      摩方精密3D打印


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