產(chǎn)品中心

      Product Center

      光固化3D打印

      產(chǎn)品簡介

      光固化3D打印是由摩方精密自主研發(fā)的超高精度微尺度3D打印系統(tǒng)。設(shè)備采用面投影微立體光刻(PμSL: Projection Micro Stereolithography)技術(shù),是目前行業(yè)極少能實現(xiàn)超高打印精度、高公差加工能力的3D打印系統(tǒng)。

      產(chǎn)品型號:
      更新時間:2024-09-18
      廠商性質(zhì):生產(chǎn)廠家
      訪問量:2395
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      品牌摩方精密應(yīng)用領(lǐng)域醫(yī)療衛(wèi)生,食品/農(nóng)產(chǎn)品,生物產(chǎn)業(yè),電子/電池,制藥/生物制藥
      光學精度2μm打印材料光敏樹脂
      打印層厚5-20μm最大打印尺寸50mm(L)×50mm(W)×10mm(H)
      光源UV?LED(405nm)

      一、光固化3D打印產(chǎn)品介紹

      設(shè)備采用面投影微立體光刻(PμSL: Projection Micro Stereolithography)技術(shù),該技術(shù)使用高精密紫外光刻投影系統(tǒng),將需打印圖案投影到樹脂槽液面,在液面固化樹脂并快速微立體成型,從數(shù)字模型直接加工三維復(fù)雜的模型和樣件,完成樣品的制作。該技術(shù)具備成型效率高、打印精度高等突出優(yōu)勢,被認為是目前最有前景的微納加工技術(shù)之一。




      二、光固化3D打印基本參數(shù)

      光源:UV-LED(405nm)

      打印材料:硬性樹脂、耐高溫樹脂、韌性樹脂、生物兼容性樹脂等

      光學精度:2μm

      打印層厚:5-20μm

      打印尺寸:

      ①模式一:3.84m(L)×2.16mm(W)×10mm(H)(單投影模式)

      ②模式二:38.4㎜(L)×21.6㎜(W)×10㎜(H)(拼接模式)

      ③模式三:50㎜(L)×50㎜(W)×10㎜(H)(重復(fù)陣列模式)

      文件格式:STL

      系統(tǒng)外形尺寸:1720㎜(L)×750㎜(W)×1820㎜(H)

      重量:550kg

      電氣要求:200-240V AC,50/60HZ,3kW


      三、應(yīng)用領(lǐng)域

      nanoArch S130 2μm精度微納3D打印系統(tǒng)可廣泛應(yīng)用于力學超材料、生物醫(yī)療、微機械結(jié)構(gòu)、微流控、三維復(fù)雜仿生結(jié)構(gòu)等領(lǐng)域。

      作為微納3D打印行業(yè),在三維復(fù)雜結(jié)構(gòu)微納加工領(lǐng)域,BMF Material團隊擁有超過二十年的科研經(jīng)驗,針對客戶在項目研究中可能出現(xiàn)的工藝和材料難題,我們將持續(xù)提供簡易高效的技術(shù)支持方案。


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