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光刻技術
產品簡介
| 品牌 | 其他品牌 | 應用領域 | 醫療衛生,食品/農產品,生物產業,電子/電池,制藥/生物制藥 |
|---|---|---|---|
| 光學精度 | 2μm | 打印材料 | 光敏樹脂 |
| 打印層厚 | 5-20μm | 最大打印尺寸 | 50mm(L)×50mm(W)×10mm(H) |
| 光源 | UV?LED(405nm) |
一、3D光刻技術介紹
摩方PµSL是一種微米級精度的3D光刻技術，這一技術利用液態樹脂在UV光照下的光聚合作用，使用滾刀快 速涂層技術大大降低每層打印的時間，并通過打印平臺三維移動逐層累積成型制作出復雜三維器件。
在三維復雜結構微納加工領域，BMF Material團隊擁有超過二十年的科研經驗，針對客戶在項目研究中可能出現的工藝和材料難題，我們將持續提供簡易高效的技術支持方案。
二、3D光刻技術功能介紹
*的薄膜滾刀涂層技術允許更高的打印速度，使打印速度最高提升10倍以上；
能夠處理高達20000cps的高粘度樹脂，從而生產出耐候性更強、功能更強大的零部件；
能夠打印工業級復合聚合物和陶瓷光敏材料，包括與巴斯夫合作開發的全新功能工程材料。
三、微納3D打印系統打印材料
通用型
丙烯酸類光敏樹脂，比如HDDA，PEGDA等。
工業級復合聚合物，例如高粘度樹脂、陶瓷漿料等。
個性化
高強度硬性樹脂、納米顆粒摻雜樹脂、生物醫用樹脂等。
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