產品中心
Product Center摩方高精度光固化3d打印機microArch® S230(精度:2μm),基于面投影微立體光刻技術(PμSL)構建。全自動水平調節系統:平臺自動調平、膜面自動調平、滾刀自動調節三大系統,打印效率提升近50倍。
電化學沉積微納金屬3D打印系統-Exaddon CERES是基于電化學沉積(Electrochemical Deposition),可以在室溫下以亞微米級分辨率打印超高精密金屬器件,且無需進行后處理。該系統非常適用于生物傳感、高頻通訊器件、微流控、傳熱和微機械等領域的創新研究。
摩方精密復合精度光固化3D打印機 D1025,復合光學精度:10μm和25μm,打印幅面:100 mm(L)x100 mm(W)x50 mm(H),極限微尺度復合樹脂增材制造設備。可應用于生物醫療、精密電子、微流控、半導體、航空航天等領域。
摩方精密復合精度光固化3D打印系統microArch® D0210,復合光學精度:2μm和10μm,打印幅面:100 mm(L)x100 mm(W)x50 mm(H),極限微尺度復合樹脂增材制造設備。
高精度微納3D打印系統nanoArch S130 ,光學精度2微米,支持光敏樹脂材料打印。系統基于摩方精密創新面投影微立體光刻技術(PμSL),并融入了摩方自主開發的多項技術。