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microArch S240A 10μm高精度微納3D打印系統(tǒng)基于BMF摩方的技術(shù)?面投影微立體光刻技術(shù)（PμSL）構(gòu)建，并融入了摩方自主開發(fā)的多項技術(shù)。摩方PμSL是一種微米級精度的3D光刻技術(shù)，這一技術(shù)利用液態(tài)樹脂在UV光照下的光聚合作用，使用滾刀快 速涂層技術(shù)大大降低每層打印的時間，并通過打印平臺三維移動逐層累積成型制作出復(fù)雜三維器件。

微納3D打印microArch® S240A基于PμSL技術(shù)，具備10微米打印精度，支持光敏樹脂和陶瓷漿料打印，專注于微尺度結(jié)構(gòu)的穩(wěn)定成型。系統(tǒng)搭載自動調(diào)平系統(tǒng)，集平臺自動調(diào)平，繃膜自動調(diào)平和滾刀自動調(diào)節(jié)三大功能，使工藝參數(shù)設(shè)置、液面調(diào)平、流平時間等步驟實現(xiàn)全自動作業(yè)模式。

摩方高精度光固化3d打印機(jī)microArch® S230（精度：2μm），基于面投影微立體光刻技術(shù)（PμSL）構(gòu)建。全自動水平調(diào)節(jié)系統(tǒng)：平臺自動調(diào)平、膜面自動調(diào)平、滾刀自動調(diào)節(jié)三大系統(tǒng)，打印效率提升近50倍。

高精度微納3D打印系統(tǒng)nanoArch S130 ，光學(xué)精度2微米，支持光敏樹脂材料打印。系統(tǒng)基于摩方精密創(chuàng)新面投影微立體光刻技術(shù)（PμSL），并融入了摩方自主開發(fā)的多項技術(shù)。